做陽極氧化處理後的氧化層怎樣去除

1。噴砂處理：鈦鑄件的噴砂處理一般選用白硬陽處理剛玉粗噴較好，噴砂處理的壓力要比非貴金屬者較小，一般控制在0。45陽極處理Mpa以下。因為，噴射壓力過大時，砂粒衝擊鈦表面產生激烈火花，溫度升高可與鈦表面發生反應，形成二次污染，影響表面質量。時間為15~30秒，僅去除鑄件表面的粘砂、表面燒結層和部分和陽極氧化層即可。其余的表面反應層結構宜采用化學酸洗的方法快速去除。

2。酸洗：酸洗能夠快速完全去除表面反應層，而表面不會產生其他元素的污染。HF—HCl系和HF—HNO3系酸洗液都可用於鈦的酸洗，但HF—HCl系酸洗液吸氫量較大，而HF—HNO3系酸洗液吸氫量小，可控制HNO3的濃度減少吸氫，並可對表面進行光亮處理，一般HF的濃度在3%~5%左右，HNO3的濃度在15%~30%左右為宜。

3．化學拋光：化學拋光是通過金屬在化學介質中的陽極氧化還原反應而達到整平拋光的目的。其優點是化學拋光與金屬的硬度、拋光處理面積與結構形狀無關，凡與拋光液接電鍍觸的部位均被拋光，不須特殊復雜設備，操作簡便，較適合於復雜結構鈦義齒支架的拋光。但化學拋光處理的工藝參數較難控制，要求在不影響義齒精度的情況下能夠對義齒有良好的拋光處理效果。較好的鈦化學拋光液是HF和HNO3按一定比例配制，HF是還原劑，能溶解鈦金屬，起到整平作用，濃度<10 br="" min="">
4．電解拋光：又稱為電化學拋鋁表面處理光或者陽極溶解拋光，由於鈦的電導率較低，陽極氧化性能極強，采用有水酸性電解液如HF—H3PO4、HF—H2SO系電解液對鈦幾乎不能拋光，施加外電壓後，鈦陽極立刻發生陽極氧化，而使陽極溶解不能進行。但采用無水氯化物電解液在低電壓下，對鈦有良好的拋光處理效果，小型試件可得到鏡面拋光處理，但對於復雜修復體仍不能達到完全拋光處理的目的，也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題，還有待於進一步研究。